进口树脂LewatitUP1292树脂应用场景

抛光树脂产品应用

朗盛UP1292MD超纯水抛光树脂应用于精密电子行业-超纯水；半导体光电超纯水抛光；混合床部件进行抛光；电力-超纯水；抛光制药业；生物技术超纯水。

抛光树脂一般用于超纯水处理系统末端，来系统出水水质能够维持用水标准。一般出水水质都能达到18兆欧以上，以及对TOC、SIO2都有一定的控制能力。抛光树脂出厂的离子型态都是H、OH型，装填后即可使用无需再生。一般用于半导体行业。

抛光树脂
1、具有交换容量及的物理特性

2、在我们有数十家 核电厂使用我们的抛光树脂

3、为阶核子级抛光树脂, 是由核子级强酸型阳离子

抛光树脂目前主要应用在UPW超纯水的制备，涉及到液晶、芯片、晶圆等半导体行业。 该类树脂由于极低的TOC，和的出水电阻率要求，以往对于该类树脂都是一次性使用，不进行再生。抛光树脂一般放置在产水的末端，前段经过RO、常规离交、可再生混床、EDI等环节的处理，进入抛光树脂的水质已经非常干净，所以抛光树脂的使用寿命也是非常长的，所以以往企业对于该类树脂到寿命期后直接换新，不再生。

近些年随着国产树脂的品质不断提升，对UPW树脂实现了国产化的替代，包括后末端的polish树脂均已实现国产化替代，随着制水工艺的深入，发现UPW树脂完全具备再生的条件，树脂阳阴分离，纯化、转型、再生、漂洗等工艺后，即可实现树脂性能的复苏。

在运输、储存和装填过程中，任何无机或有机物质的接触都会使树脂受到污染，从而降低出水水质；影响运行工况。因此所有用于装填、操作的设备和水不会污染树脂。所有与树脂接触的水都使用高纯水（所涉及到的水均指“高纯水”，即电阻率大于等于10MΩ·cm，同时TOC尽可能低于30ppb的水），所有接触树脂的设备或器具都要在使用前经过高纯水清洗。如为换装树脂，设备中原有的旧树脂完全从树脂容器中移去，树脂容器内部清洁无杂质。
朗盛UP1292MD超纯水抛光树脂一种即用型混合床，包括强酸性阳离子（SAC）和强碱性（I型）细胞阴离子（SBA）交换剂。根据各组分的总容量将混合物调节至1：1的当量比。用于生产高纯度水制备作为混合床。Lewatit®UltraPure 1292 MD经过高度再生和特殊清洁，符合半导体行业的规格要求。从Lewatit®UltraPure 1292 MD到处理过的水中的有机物浸出量降至10 ppb以下，其电阻率达到18 MOhm * cm以上。
应德国朗盛抛光树脂UP1292用于超纯水体系中反渗透装配后的混床中。这类混床树脂产物普通应用于非凡电子行业的超纯水精制中，如出产磁盘驱动器、表现设置装备摆设、CD－ROM、自力的半导体设置装备摆设、低密集成电路，或许用于后级集成电路的分块和配件操纵中。这些使用即需求有高纯度的水质，又需求拥有经济性。
在使用朗盛1292MD树脂的期间，应防止与金属（如铁、铜等）油、有机分子微生物、强氧化剂等接触，以免降低离子交换能力，严重的污染甚至会导致树脂报废的风险。因此，树脂根据情况不定期激活，而激活方法可根据污染情况和条件确定。